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    三星3nm制程工藝已成功流片 采用全環(huán)繞柵極晶體管技術(shù)

    2021-06-30 10:26 · 稿源: TechWeb.com.cn

    【TechWeb】6月30日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,在2015年為蘋(píng)果代工的A9芯片在iPhone 6s上的續(xù)航能力不及臺(tái)積電所生產(chǎn)芯片一事出現(xiàn)之后,三星就再也未能獲得蘋(píng)果A系列處理器的代工訂單,蘋(píng)果的訂單也就全部交給了臺(tái)積電,三星隨后在芯片制程工藝和良品率方面,也始終不及臺(tái)積電,在芯片代工商市場(chǎng)的份額也遠(yuǎn)不及臺(tái)積電。

    但在芯片制程工藝及代工市場(chǎng)連續(xù)多年落后臺(tái)積電的三星,并不甘于落后,在7nm和5nm制程工藝未能先于臺(tái)積電量產(chǎn)之后,他們把目標(biāo)放在了更先進(jìn)的3nm制程工藝上。去年就曾有消息稱,為了在3nm工藝上領(lǐng)先臺(tái)積電,三星修改了芯片工藝路線圖,跳過(guò)4nm工藝,由5nm直接提升到3nm。

    而外媒的報(bào)道顯示,力求在3nm制程工藝方面領(lǐng)先臺(tái)積電的三星,目前也傳出了好消息,他們的3nm制程工藝已成功流片。

    外媒在報(bào)道中,并未三星電子的3nm制程工藝流片的具體時(shí)間,但成功流片,也就意味著這一制程工藝距離量產(chǎn)又更近了一步。

    不同于臺(tái)積電在3nm工藝上繼續(xù)使用的成熟的鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管技術(shù)(FinFET),三星的3nm工藝,采用的是全環(huán)繞柵極晶體管(GAA)技術(shù),這也就需要不同的設(shè)計(jì)和驗(yàn)證平臺(tái)。

    外媒在報(bào)道中也提到,三星3nm工藝,采用的是Synopsys公司的Fusion設(shè)計(jì)平臺(tái),三星3nm制程工藝成功流片,是兩家公司廣泛合作的成果,也將加速這一工藝的量產(chǎn)。

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