站長之家(ChinaZ.com) 3月23日消息:在日前舉行的英偉達 GPU 技術(shù)大會（NVIDIA GTC）上，英偉達公布了其在計算光刻技術(shù)方面的突破。新的 Nvidia cuLitho 軟件庫將加速計算引入了計算光刻領(lǐng)域，使半導(dǎo)體公司能夠在這一領(lǐng)域取得突破。

英偉達 CEO 黃仁勛透露，經(jīng)與臺積電、ASML 及新思科技四方的合作，經(jīng)歷四年開發(fā)，英偉達完成全新的 AI 加速技術(shù) Culitho，這是一個用于運算式微影函式庫，將可縮短先進制程芯片的光罩時程、拉升良率并大幅減低晶圓制作的能耗。黃仁勛并預(yù)告臺積電將把這套 AI 系統(tǒng)，在今年6月導(dǎo)入2納米試產(chǎn)，用于提升2納米制程良率，并縮短量產(chǎn)時程。

「芯片行業(yè)是世界上幾乎所有其他行業(yè)的基礎(chǔ)，」英偉達創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官黃仁勛說?！赣捎诠饪碳夹g(shù)處于物理學(xué)的極限，英偉達推出的 cuLitho 以及與我們的合作伙伴臺積電、ASML 和 Synopsys 的合作，使晶圓廠能夠提高產(chǎn)量，減少碳足跡，并為2納米及以后的發(fā)展奠定了基礎(chǔ)?！?/p>

cuLitho 在 GPU 上運行，其性能比目前的光刻技術(shù)（在硅晶圓上創(chuàng)建圖案的過程）提高了40倍，可以加速目前每年消耗數(shù)百億個 CPU 小時的大規(guī)模計算工作負(fù)載。它使500個 NVIDIA DGX H100系統(tǒng)實現(xiàn)了40000個 CPU 系統(tǒng)的工作，并行運行計算光刻工藝的所有部分，有助于減少電力需求和潛在的環(huán)境影響。

在短期內(nèi)，使用 cuLitho 的工廠可以幫助每天生產(chǎn)3-5倍的光罩 —— 芯片設(shè)計的模板 —— 使用比當(dāng)前配置少9倍的電力。一個需要兩周時間的光罩現(xiàn)在可以在一夜之間完成。

從長遠(yuǎn)來看，cuLitho 將實現(xiàn)更好的設(shè)計規(guī)則、更高的密度、更高的產(chǎn)量和 AI 驅(qū)動的光刻技術(shù)。

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