全球科技巨頭 Intel 近日宣布，其位于俄勒岡州的晶圓廠收到了來(lái)自 ASML 的全球首臺(tái)高數(shù)值孔徑（NA）極紫外（EUV）光刻機(jī)，型號(hào)為 Twinscan EXE:5000。此舉標(biāo)志著 Intel 在推動(dòng)摩爾定律方面邁出了關(guān)鍵一步。
Intel 于 2018 年預(yù)訂了這款新一代光刻機(jī)，它將應(yīng)用于計(jì)劃于今年量產(chǎn)的 Intel 18A 制造工藝，即 1.8nm 級(jí)別。
此外，Intel 還訂購(gòu)了改進(jìn)型的 Twinscan EXE:5200，預(yù)計(jì)將在 2025-2026 年用于更先進(jìn)的工藝。
據(jù)報(bào)道，ASML 將在 2024 年生產(chǎn)最多 10 臺(tái)新一代高 NA EUV 光刻機(jī)，其中 Intel 預(yù)訂了多達(dá) 6 臺(tái)。到 2027-2028 年，ASML 的年產(chǎn)量預(yù)計(jì)將增加到約 20 臺(tái)。
新光刻機(jī)的成本估計(jì)至少為 3 億美元，甚至可能高達(dá)或超過(guò) 4 億美元，接近人民幣 30 億元，而現(xiàn)有的低 NA EUV 光刻機(jī)成本約為 2 億美元。
（舉報(bào)）