涵蓋先進(jìn)的7納米和更小產(chǎn)品的制造技術(shù)需要使用極紫外光刻機(jī)（EUV）在小范圍內(nèi)打印數(shù)十億個(gè)微小電路，全球目前只有臺(tái)積電、三星和英特爾公司在使用--芯片制造技術(shù)的進(jìn)一步進(jìn)步，涉及到電路尺寸的進(jìn)一步縮小，將使芯片制造商難以繼續(xù)使用這些機(jī)器...這些被稱(chēng)為高NA（數(shù)字孔徑），臺(tái)積電將在2024年收到它們...這些活動(dòng)顯示，截至該公司的目標(biāo)是使其新技術(shù)比目前最新的3納米技術(shù)提高10%至15%的性能；新技術(shù)還能降低25%至30%的功耗.........

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