近年來，摩爾定律正在逐漸消失的說法不絕于耳。但臺積電用工藝證明，摩爾定律不死，仍在持續(xù)往前推進。

工藝越先進，晶體管微縮越困難。此前，聯(lián)電、格芯相繼放棄10nm以下的先進制程的研發(fā)，Intel也在工藝制程上持續(xù)放緩。

據(jù)芯智訊消息，12月22日舉辦的中國集成電路設計業(yè)2021年會暨無錫集成電路產業(yè)創(chuàng)新發(fā)展高峰論壇上，臺積電（南京）有限公司總經理羅鎮(zhèn)球表示，臺積電正在用新工藝證明了摩爾定律仍在持續(xù)往前推進。

羅鎮(zhèn)球介紹，臺積電的7nm是在2018年推出的，5nm是在2020年推出的，我們在2022年會如期推出3nm的工藝，而且我們2nm的工藝也在順利研發(fā)。

對于工藝制程來說，最關鍵的指標有三個：性能、功耗和密度（單位面積內的晶體管數(shù)量）。

羅鎮(zhèn)球稱，臺積電從7nm到5nm再到3nm，單位面積里面的晶體管數(shù)相比上一代都是會增長1.7到1.8倍，性能部分每代都會提升高超過10%。同樣性能情況下，功耗可以降低20%以上。

對于3nm量產困難的傳聞，羅鎮(zhèn)球表示，那些都只是傳聞，會如期（2022年）量產3nm。

據(jù)臺積電官方資料顯示，臺積電的3nm相比上一代的5nm工藝，在邏輯密度上提升了1.7倍，性能提升了11%，同等性能下功耗可降低25-30%。

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