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Intel官方宣布,位于俄勒岡州的晶圓廠已經(jīng)收到ASML發(fā)貨的全球第一臺(tái)高NAEUV極紫外光刻機(jī),型號(hào)為TwinscanEXE:5000”,它將幫助Intel繼續(xù)推進(jìn)摩爾定律。Intel早在2018年就向ASML訂購(gòu)了這種新一代光刻機(jī),將用于計(jì)劃今年量產(chǎn)的Intel18A制造工藝,也就是1.8nm級(jí)別。新光刻機(jī)的價(jià)格估計(jì)至少3億美元,甚至可能達(dá)到或超過(guò)4億美元,也就是逼近人民幣30億元現(xiàn)有低NAEUV光刻機(jī)需要2億美元左右。
ASML(荷蘭阿斯麥)正抓緊研制其下一代高NA(0.55數(shù)值孔徑)的EUV極紫外光刻機(jī),在發(fā)布最新財(cái)報(bào)期間,AMSL透露,其存量EUV客戶均訂購(gòu)了新一代設(shè)備...韓國(guó)設(shè)備商透露,現(xiàn)款EUV光刻機(jī)的訂貨價(jià)是2000~3000億韓元(約合10~16億元人民幣),而高NAEUV光刻機(jī)的報(bào)價(jià)翻番到了5000億韓元(約合26億元)...在三季度財(cái)報(bào)中,ASML完成58億歐元的凈銷售額,毛利率51.8%、凈利潤(rùn)17億歐元,公司預(yù)計(jì)四季度凈銷售額在61~66億歐元之間......
【TechWeb】10月22日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,已順利量產(chǎn)7nm、5nm芯片制程工藝的臺(tái)積電和三星電子,已采購(gòu)了大量的極紫外光刻機(jī),用于為相關(guān)的廠商代工芯片。而除了臺(tái)積電、三星電子等芯片代工商,存儲(chǔ)芯片制造商也已采購(gòu)或計(jì)劃采購(gòu)極紫外光刻機(jī)。年初就曾有外媒報(bào)道,SK海力士新建成的M16工廠,就已安裝了極紫外光刻機(jī)。英文媒體的報(bào)道顯示,美光科技也已計(jì)劃采購(gòu)極紫外光刻機(jī)。美光科技計(jì)劃采購(gòu)極紫外光刻機(jī),是美光科技負(fù)責(zé)全球運(yùn)
作為全球第一光刻機(jī)供應(yīng)商,荷蘭ASML(阿斯麥)今天公布了2021年第二季度財(cái)報(bào)。當(dāng)季,ASML凈銷售額40億歐元,毛利率50.9%,凈收入10億歐元,凈預(yù)訂額83億歐元,其中EUV極紫外光刻機(jī)就有49億歐元,而總的積壓訂單金額已達(dá)175億歐元。ASML在財(cái)報(bào)中還披露,第一臺(tái)全新TWINSCAN NXE:3600D EUV光刻機(jī)系統(tǒng)已經(jīng)交付給客戶,相比之前的NXE:3400C生產(chǎn)力提高了15-20%,覆蓋率(套刻精度)提高了約30%。不過(guò),ASML未透露接收客戶是哪一家。AS
【TechWeb】5月19日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,本周一,外媒援引韓國(guó)產(chǎn)業(yè)通商資源部一份有關(guān)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略文件報(bào)道稱,光刻機(jī)制造商阿斯麥將投資2.12億美元,在京畿道華城建設(shè)極紫外光刻機(jī)再制造廠和培訓(xùn)中心。在報(bào)道阿斯麥將在華城建設(shè)極紫外光刻機(jī)再制造廠和培訓(xùn)中心時(shí),外媒還提到,雖然三星電子、SK海力士已引進(jìn)了阿斯麥生產(chǎn)的極紫外光刻機(jī),但他們獲得的數(shù)量同臺(tái)積電相比,有不小的差距。外媒在報(bào)道中提到,阿斯麥目前已生產(chǎn)
9月28日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,在8月份的全球技術(shù)論壇期間,臺(tái)積電曾透露全球目前在運(yùn)行的極紫外光刻機(jī)中,他們約有一半,產(chǎn)能則是預(yù)計(jì)占全球的60%。臺(tái)積電是從第二代的7nm工藝開(kāi)始采用極紫外光刻機(jī)的,7nm之后的工藝,就將全部極紫外光刻機(jī),隨著5nm工藝的大規(guī)模投產(chǎn),他們對(duì)極紫外光刻機(jī)的需求也越來(lái)越大。而消息人士透露,臺(tái)積電正在加快研發(fā)極紫外光刻機(jī)工藝,他們預(yù)計(jì)到明年年底,極紫外光刻機(jī)的累計(jì)采購(gòu)量將達(dá)到
3月26日據(jù)oltnews援引日經(jīng)新聞報(bào)道,三星電子本周三宣布,已經(jīng)在首爾華盛市的一家DRAM工廠的一條生產(chǎn)線上部署了極紫外光刻技術(shù)(EUV),將精密內(nèi)存芯片制造的生產(chǎn)率提高一倍。三星是第一個(gè)將這項(xiàng)技術(shù)用于大規(guī)模生產(chǎn)存儲(chǔ)芯片的公司,這是 20 年來(lái)生產(chǎn)技術(shù)的首次重新設(shè)計(jì)。三星的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手SK海力士計(jì)劃2021年在DRAM生產(chǎn)線上安裝EUV設(shè)備。